什么是道具涂层?一文搞懂刀具涂层
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- 发布时间:2022-03-01
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【概要描述】目前常用的刀具涂层方法有化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)。近年来,出现了一些新的涂装工艺,具有良好的应用前景。
什么是道具涂层?一文搞懂刀具涂层
【概要描述】目前常用的刀具涂层方法有化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)。近年来,出现了一些新的涂装工艺,具有良好的应用前景。
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目前常用的刀具涂层方法有化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)。近年来,出现了一些新的涂装工艺,具有良好的应用前景。
化学气相沉积法:化学气相沉积法属于原子沉积,是利用金属卤化物的氢气、蒸气等化学成分,对气固反应沉积物进行分解和热封在950~1050°的高温下,在被加热的衬底表面形成原子尺度的固体沉积层,如离子、原子、分子等的方法。该工艺包括三个阶段:材料蒸发、输送到基底附近和在基底上形成覆盖层。在各种化学气相沉积方法中,常用的是真空离子轰击法和磁控离子反应喷涂法。CVD技术主要用于硬质合金车刀的表面涂层,其涂层刀具适用于中重型切削的高速粗加工和半精加工。700~900°的中温化学气相沉积可获得致密的纤维状结晶TCN涂层,涂层厚度可达8 ~ 10 m,表层可沉积A2O3、TiN等材料。其具有良好的高温抗氧化性、与加工材料的低亲和性以及通过化学气相沉积技术获得的良好的自润滑性能。
PVD法:PVD法利用蒸发或溅射等物理形式从靶源中去除材料,然后通过真空或半真空空间使这些携带能量的蒸汽离子沉积在衬底或零件表面,形成薄膜层。蒸发或溅射的金属原子发生气相反应,通过气相反应过程,从而在工具表面沉积所需的化合物。PVD涂层可以涂覆碳氮化钛、氮化钛、铝氮化钛化合物以及各种难熔金属的碳化物和氮化物。目前常用的PvD方法包括晶体管高压电子束蒸发(THVEE)、阴端电子弧沉积(CAD)、低压电子束蒸发(LVEE)、非平衡磁控溅射(UMS)、离子束辅助沉积(IAD)和动态离子束混合(DIM)。主要区别是沉积材料的蒸发方法和产生等离子体的方法不同,使得成膜速度和成膜质量不同。PVD技术主要应用于硬质合金刀具和高速工具钢刀具的表面处理,已广泛应用于硬质合金钻头、铣刀、铰刀、丝锥、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。
由于现代金属切削对刀具设置有很高的技术要求,TiN涂层越来越不适合。TiN涂层的抗氧化性较差。当使用温度达到500°时,涂层明显氧化烧蚀,硬度达不到要求。TiC具有较高的显微硬度,因此这种材料的耐磨性更好。同时它牢固地附着在基底上。制备多层耐磨涂层时,常采用TiC作为与基体接触的底膜,是涂层工具中非常常见的涂层材料。
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